洁净室计量控制器Skill cleanroom-metrology-controller

名称	cleanroom-metrology-controller
描述	用于工艺控制的纳米制造计量技能，涵盖CD-SEM、椭圆偏振仪和轮廓仪 allowed-tools: - Read - Write - Glob - Grep - Bash metadata: specialization: 纳米技术 domain: 科学 category: 制造 priority: high phase: 6 tools-libraries: - CDSEM配方管理器 - 椭圆偏振仪拟合软件

洁净室计量控制器

目的

洁净室计量控制器技能为纳米制造工艺控制提供全面的在线计量，能够精确测量和监控关键尺寸、薄膜厚度和图案质量。

能力

• CD-SEM测量配方
• 光谱椭圆偏振分析
• 薄膜厚度映射
• 表面轮廓测量
• 缺陷检测
• 套刻精度测量

使用指南

计量控制

1. CD-SEM测量

   • 开发自动化配方
   • 根据参考标准校准
   • 跟踪工艺变化

2. 椭圆偏振仪

   • 选择合适模型
   • 映射厚度均匀性
   • 表征光学常数

3. 缺陷检测

   • 设置检测阈值
   • 分类缺陷类型
   • 跟踪良率趋势

工艺集成

• 所有制造工艺
• 分析流水线验证

输入模式

{
  "measurement_type": "cd_sem|ellipsometry|profilometry|defect",
  "target_parameter": "string",
  "wafer_map": {"sites": "number", "pattern": "string"},
  "specification": {
    "target": "number",
    "tolerance": "number"
  }
}

输出模式

{
  "measurements": [{
    "site": "string",
    "value": "number",
    "unit": "string"
  }],
  "statistics": {
    "mean": "number",
    "std_dev": "number",
    "range": "number"
  },
  "uniformity": "number (%)",
  "pass_fail": "boolean",
  "trending_data": {"dates": [], "values": []}
}