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name: 纳米压印工艺控制器 description: 用于高通量纳米图案化的纳米压印光刻技能，具备模板管理和脱模优化功能 allowed-tools:

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• Bash metadata: specialization: 纳米技术 domain: 科学 category: 制造 priority: medium phase: 6 tools-libraries:
  • NIL工艺模拟
  • 模板设计工具

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纳米压印工艺控制器

目的

纳米压印工艺控制器技能提供全面的纳米压印光刻工艺控制，通过模板设计、压印优化和缺陷管理实现高通量纳米图案化。

能力

• 模板设计与制造
• 压印压力与温度优化
• UV-NIL与热NIL协议
• 脱模力分析
• 残留层控制
• 缺陷检测与良率分析

使用指南

NIL工艺控制

1. 模板准备

   • 设计时考虑脱模需求
   • 应用防粘处理
   • 验证图案保真度

2. 压印优化

   • 优化压力与温度
   • 控制残留层厚度
   • 最小化缺陷

3. 良率提升

   • 追踪缺陷类型
   • 优化脱模条件
   • 实施清洁协议

工艺集成

• 纳米光刻工艺开发
• 定向自组装工艺开发

输入模式

{
  "template_id": "string",
  "resist_type": "thermal|uv_curable",
  "target_features": {
    "min_cd": "number (nm)",
    "pitch": "number (nm)",
    "aspect_ratio": "number"
  },
  "substrate": "string"
}

输出模式

{
  "process_parameters": {
    "temperature": "number (C)",
    "pressure": "number (bar)",
    "time": "number (s)",
    "uv_dose": "number (mJ/cm2)"
  },
  "residual_layer": "number (nm)",
  "demolding_force": "number (N)",
  "defect_density": "number (defects/cm2)",
  "yield": "number (%)"
}